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【文章】 硅單晶超聲清洗機(jī)的清理技術(shù)性
超聲清洗機(jī)在半導(dǎo)體材料電子器件的制取全過程中,每個全過程都涉及到清除,清除的品質(zhì)立刻損害到下個全過程,乃至損害機(jī)械設(shè)備的總產(chǎn)值和高xiao率性。 因為ULSI響應(yīng)時間的迅速提升和機(jī)械設(shè)備型號規(guī)格的減少,對集成ic表面的環(huán)境污染規(guī)定更為嚴(yán)苛。ULSI技術(shù)性盡量吸咐不超過500平米/平…
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