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【文章】 硅單晶超聲清洗機的清理技術性
超聲清洗機在半導體材料電子器件的制取全過程中,每個全過程都涉及到清除,清除的品質立刻損害到下個全過程,乃至損害機械設備的總產值和高xiao率性。 因為ULSI響應時間的迅速提升和機械設備型號規(guī)格的減少,對集成ic表面的環(huán)境污染規(guī)定更為嚴苛。ULSI技術性盡量吸咐不超過500平米/平…
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