河南硅單晶超聲清洗機(jī)的清理技術(shù)性
超聲清洗機(jī)在半導(dǎo)體材料電子器件的制取全過程中,每個(gè)全過程都涉及到清除,清除的品質(zhì)立刻損害到下個(gè)全過程,乃至損害機(jī)械設(shè)備的總產(chǎn)值和高xiao率性。
因?yàn)閁LSI響應(yīng)時(shí)間的迅速提升和機(jī)械設(shè)備型號(hào)規(guī)格的減少,對(duì)集成ic表面的環(huán)境污染規(guī)定更為嚴(yán)苛。ULSI技術(shù)性盡量吸咐不超過500平米/平米,金屬材料高分子材…